안녕하세요....

특허출원 관련하여 궁금한 사항이 있어 이렇게 글을 올립니다.

특허내용은 기계적인 활성을 이용하여 CeO2 나노 분말을 합성하는 것인데,

기존특허와 유사합니다.

기존특허와 제가 특허 출원을 하려고 하는내용은 아래와 같습니다.

기존특허
출발재료 : Ce(OH)4, NaCl
제조공정 : 출발재료와 분쇄 매체를 밀(mill)에 투입 ■ milling(1-10hrs)
■ 대기중 500■에서 하소(calcination) ■ 희석제 NaCl을 증류수로 세척
■ 세척된 분말을 60■에서 건조 ■ 5-100nm 크기를 같는 CeO2 분말

특허출원 예정
출발재료 : CeCl3■6H2O, NaOH, NaCl
제조공정 : 출발재료와 분쇄 매체를 밀(mill)에 투입 ■ milling(1-3hrs)
■ 희석제 NaCl을 증류수로 세척 ■ 세척된 분말은 60■에서 건조
■ 5-100nm 크기를 같는 CeO2 분말

기존 특허와 다른점은 출발재료가 다르며, 분말합성 공정중 하소공정(500■에서 가

열) 없이 CeO2 나노 분말을 합성할 수 있다는 것입니다. 나머지 공정은 기존 특허

내용과 같습니다.

이러한 경우 특허등록이 가능한지 답변 부탁드립니다.